Τροφοδοτικό υψηλής απόδοσης MF Magnetron Sputtering

Προσδιορισμός

Χαρακτηριστικά

◆ Η πηγή υψηλής ισχύος MF magnetron μπορεί να εφαρμόσει εύλογα και γρήγορα τη λειτουργία του τόξου με βάση την πλήρη ικανοποίηση της απαίτησης ρεύματος. Και το τροφοδοτικό έχει τέλειες δυνατότητες εμφάνισης και προστασίας κάτω από τάση, υπέρταση, υπερφόρτωση, υπερθέρμανση, κλπ. Επίσης, μπορεί να διασκορπίσει μη αγώγιμους στόχους και να αυξήσει τον ρυθμό ιοντισμού για να ξεπεραστεί αποτελεσματικά η δηλητηρίαση από το στόχο και η ανώμαλη εκκένωση.

◆   Η τροφοδοσία ρεύματος υιοθετεί την προηγμένη τεχνολογία τροφοδοσίας υψηλής τάσης του μετατροπέα και τη μονάδα ισχύος IGBT για τη μείωση του στοιχείου αποθήκευσης ενέργειας εξόδου, με αποτέλεσμα το στρώμα επικάλυψης να είναι εξαιρετικά πυκνό και ομαλό.

◆   Χρησιμοποιώντας τον μικροελεγκτή της οθόνης αφής, η παροχή ρεύματος είναι ιδιαίτερα ενσωματωμένη και ισχυρή με εύκολη λειτουργία. Η ένδειξη ρεύματος και τάσης είναι πολύ σαφής και διαισθητική.

◆   Η τεχνολογία καταστολής τόξου PHP διασφαλίζει ότι οι χρήστες μπορούν να ελέγξουν την ποιότητα του στρώματος επικάλυψης πιο βολικό στη διαδικασία επιφανειακής επεξεργασίας. Επίσης, έχοντας τα χαρακτηριστικά της σταθεροποίησης τάσης και του ιδανικού πραξικοπήματος, η τροφοδοσία δύναται να αναστέλλει αποτελεσματικά το τόξο στην επιφάνεια του τεμαχίου προς κατεργασία και να βελτιώνει σημαντικά την απόδοση παραγωγής, καθώς και την επιφανειακή λεπτότητα και την πρόσφυση μεμβράνης των τεμαχίων επιμετάλλωσης.

◆   Η παροχή ρεύματος προσφέρει τρεις λειτουργίες (σταθερή τάση, σταθερό ρεύμα και σταθερή ισχύ) από τις οποίες μπορείτε να επιλέξετε. Σε σύγκριση με τον παραδοσιακό τρόπο συνεχούς ρεύματος, η λειτουργία σταθερής ισχύος μπορεί να εξασφαλίσει καλύτερα την επαναληψιμότητα της διαδικασίας επικάλυψης.

◆ Η τροφοδοσία μπορεί να επικοινωνεί με τον κεντρικό υπολογιστή μέσω των ψηφιακών θυρών όπως RS232, RS485, WIFI και ούτω καθεξής, η οποία επεκτείνει τη λειτουργία ελέγχου.

◆   Με μεγάλη ισχύ εξόδου και συχνότητα, το τροφοδοτικό μπορεί να καλύψει τις ανάγκες διαφορετικών εφαρμογών επεξεργασίας.

◆   Οι κυριότερες παράμετροι μπορούν να ρυθμιστούν μέσα σε ένα μεγάλο εύρος.

Εφαρμογή

Υψηλής ισχύος MF magnetron sputtering πηγή ενέργειας χρησιμοποιείται ευρέως στον πλάσμα, φυσικά, χημικά, ιατρικά και διάφορους επιστημονικούς τομείς έρευνας, μπορεί να ανταποκριθεί σε ένα ευρύ φάσμα απαιτήσεων της διαδικασίας ειδικά στον εξοπλισμό επίστρωσης κενού.

Σύγκριση απόδοσης σε σύγκριση με το τροφοδοτικό ισχύος 30kw MF Magnetron Sputtering

Πλεονεκτήματα της υψηλής ισχύος MF Magnetron Sputtering Power Source EP125A80H

◆   Υψηλή αξιοποίηση χώρου του κλιβάνου

Το EP125A80H απαιτεί λιγότερους στόχους ενδιάμεσης συχνότητας και εξασφαλίζει μεγαλύτερη χρήση του κλιβάνου και καλύτερη παραγωγική ικανότητα.

◆ Εξαιρετική τεχνολογία καταστολής τόξου

Το EP125A80H υιοθετεί την τεχνολογία καταστολής των τόξων της PHP, έτσι ώστε οι χρήστες να μπορούν εύκολα να ελέγχουν την ποιότητα της μεμβράνης στη διαδικασία επιφανειακής επεξεργασίας για καλύτερη δομή ταινιών.

◆ Καλή συμβατότητα

Οι χρήστες μπορούν να αντικαταστήσουν απευθείας την υπάρχουσα τροφοδοσία μαγνητρονίου με EP125A80H και να αντικαταστήσουν μόνο το σύστημα ψύξης αντί να αντικαταστήσουν τα υλικά καθόδου και τα μαγνητικά πεδία.

◆   Υψηλή αναλογία ισχύος προς όγκο

Ο υψηλός λόγος ισχύος προς όγκο καθιστά την ενσωμάτωση της εγκατάστασης εξοπλισμού ευκολότερη για τους χρήστες.

Συσκευασία: 1. Ξύλινο κιβώτιο

2. Κουτί

3. Ως αίτημά σας

Πληρωμή: T / T, L / C, κλπ.

Χρόνος παράδοσης: Κανονικά 15 ~ 20 ημέρες μετά την πληρωμή

Ναυτιλία: Αεροπορικώς ή δια θαλάσσης

Δημοφιλείς Ετικέτες: υψηλής ισχύος mf magnetron sputtering τροφοδοτικό, Κίνα, κατασκευαστές, προμηθευτές, αγοράζουν, εξατομικευμένες, γίνεται στην Κίνα