Εφαρμογή εξάτμισης δέσμης ηλεκτρονίων

Εφαρμογή της εξάτμισης ακτίνων ηλεκτρονίων -- προετοιμασία της ταινίας TiO2 από την εξάτμιση ακτίνων ηλεκτρονίων

Εξάτμιση δέσμης ηλεκτρονίων αρχήεπικάλυψης για την προετοιμασία TiO2 ταινία, χρησιμοποιώντας την ακεραιότητα-39 αυτόματο σύστημα οπτικής επικάλυψης με δέσμη ιονίων υποβοηθούμενη εξάτμιση δέσμης ηλεκτρονίων, όπως φαίνεται στην παρακάτω εικόνα.

1. Δροσίζοντας σποτ νερού 2. Έξοδος νερού ψύξης. 3. Χωνευτήριο· 4. Πηνίο ακτίνων 5. Πομπός δέσμης ηλεκτρονίων. 6. Λαμπτήρας θέρμανσης· 7. Πλαίσιο υποστρώματος 8. Ο κινητήρας? 9. Ταινία παρακολούθησης· 10. Η τάση εργασίας του πυροβόλου όπλου ηλεκτρονίων δειγμάτων που προετοιμάζεται από την ιονική επένδυση πηγής είναι 10 kV, το ρεύμα είναι 200 Α, και η θερμοκρασία εναπόθεσης της κενής αίθουσας είναι 145 ~ 155°C. Το μαύρο κοκκώδες Ti2O3 με καθαρότητα 99,99% επιλέχθηκε για το υλικό της μεμβράνης. Cc-105 η κρύα ιοντική ακτίνα καθόδου χρησιμοποιήθηκε για τη βοηθητική εναπόθεση. Κατά τη διάρκεια της κατάθεσης, ο θάλαμος κενού γέμισε με O2 με καθαρότητα 99,99% ως αέριο αντίδρασης. Πριν από την επίστρωση, το υπόστρωμα καθαρίζεται με γυάλινο διάλυμα, ξεπλύνεται μενερό, και στεγνώνω με άζωτο. Στη συνέχεια, το υπόστρωμα καθαρίζεται με 99,9% ακετόνη και άνυδρο κύμα υπερήχων αιθανόλης για 15 λεπτά το καθένα. Μετά την ξήρανση με ειδικό χαρτί σκουπίσματος, φορτώνεται στο θάλαμο κενού. Όταν το κενό αντλείται σε 6,5 × 10-4pa με μηχανική αντλία και αντλία διάχυσης, η αυτόματη διαδικασία επιμετάλλωσης έχει ρυθμιστεί. Όταν το υπόστρωμα θερμαίνεται στη θερμοκρασία εναπόθεσης των 150°C, η πηγή ιονικών αρχίζει να βομβαρδίζει το υπόστρωμα και η ενέργεια ελέγχεται στα 60 ~ 90 eV για 10 λεπτά.

κατόπιν, το πυροβόλο όπλο ηλεκτρονίων αρχίζει αυτόματα να θερμαίνει και να εξατμίζει το υλικό ταινιών, και το ποσοστό εναπόθεσης είναι 0.38 ~ 0.42 nm/s. Όταν η ταινία εναποτίθεται στο πάχος του σχεδιασμού των 440 nm, το πρόγραμμα κλείνει αυτόματα το πυροβόλο όπλο ηλεκτρονίων, και η επένδυση έχει ολοκληρωθεί. Μετά την επίστρωση, ο θάλαμος κενού ψύχθηκε φυσικά σε θερμοκρασία δωματίου και το δείγμα αφαιρέθηκε. Φασματική δοκιμή του δείγματος TiO2 πραγματοποιήθηκε με φασματοφωτόμετρο Λάμδα900 (εύρος δοκιμής 175 ~ 3 300 nm). Ο πραγματικός δείκτης πάχους, απόσβεσης και διάθλασης της ταινίας TiO2 υπολογίστηκαν με τη μέθοδο του φακέλου λογισμικού Macleod. Οι επιπτώσεις των διαφορετικών βαθμών κενού στην ταινία που σχηματίζουν quality, ο δείκτης διάθλασης και ο συντελεστής απορρόφησης του TiO2 μελετήθηκαν με διαφορετικές ροές οξυγόνου υψηλής καθαρότητας στο θάλαμο κενού. Όταν η λεπτή μεμβράνη TiO2 εναποτίθεται με εξάτμιση με τη βοήθεια της ιονικής πηγής σε υψηλό βαθμό κενού, η αλλαγή του κενού βαθμού με τη διέλευση του οξυγόνου παρατίθεται στον ακόλουθο πίνακα. Δεδομένου ότι τα μόρια οξυγόνου στον κενό θάλαμο ιονίζονται στα ιόντα οξυγόνου και αντιδρούν με τα μόρια ατμού Ti2O3 πλήρως, το οξυγόνο που χάνεται στην αποσύνθεση Ti2O3 αναπληρώνεται, και το προκύπτον TiO2 στην ταινία είναι σχετικά καθαρό. Ωστόσο, εάν η παροχή οξυγόνου είναι ανεπαρκής ή η αντίδραση μεταξύ Ti2O3 και O2 είναι ανεπαρκής, η μεμβράνη οξείδιο του τιτανίου υψηλής απορρόφησης tino2n-1 (n=1, 2,... , 10). Με την αύξηση της ροής οξυγόνου, η πιθανότητα σύγκρουσης μεταξύ των μορίων ατμών TiO2 και των μορίων οξυγόνου στη διαδικασία της αύξησης εξάτμισης αυξάνεται και η ενέργεια χάνεται, η οποία μειώνει την κινητική ενέργεια TiO2 που εναποτίθεται στην επιφάνεια υποστρωμάτων και έχει επιπτώσεις στην προσκόλληση και την πυκνότητα της θεμελιωμένης ταινίας. Για τις οπτικές λεπτές μεμβράνες, η ιονική πηγή βοηθά μπορεί να αυξήσει την κινητική ενέργεια των μορίων στην επιφάνεια υποστρώματος, όχι μόνο έχει σημαντικό αντίκτυπο στο δείκτη διάθλασης της μεμβράνης, αλλά και μπορεί να βελτιώσει την πυκνότητα της μεμβράνης και την αντοχή στην υγρασία, και η πρόσφυση με μεμβράνης στο υπόστρωμα βελτιώνεται επίσης σημαντικά.

IKS-OPT2700 οπτική κενή μηχανή επιστρώματος ε-πυροβόλων όπλων, περισσότερες λεπτομέρειες, επαφή: iks.pvd@foxmail.com