PVD τιτανίου νέα τεχνολογία αυξηθεί επιμετάλλωσης

 PVD επίστρωση τιτανίουνέα τεχνολογία Ανέστη

PVD(Physical): PVD (φυσική εναπόθεση ατμών) αναφέρεται στη διαδικασία μεταφοράς άτομα ή μόρια από την πηγή στην επιφάνεια του υποστρώματος, χρησιμοποιώντας φυσικές διεργασίες. Η λειτουργία του είναι να ενεργοποιήσετε κάποια σωματιδίων ψεκασμός με ειδικές ιδιότητες (υψηλής αντοχής, αντίσταση γδαρσίματος, διασκεδασμός θερμότητας, αντοχή στη διάβρωση, κ.λπ.) να είναι στη μήτρα με χαμηλότερη απόδοση, έτσι ώστε η μήτρα έχει καλύτερη απόδοση. PVD βασικές μεθόδους: εξάτμιση υπό κενό, επιμετάλλωση, ιοντική επιμετάλλωση (κοίλη κάθοδο ιοντική επιμετάλλωση, ζεστό καθόδων ιοντική επιμετάλλωση, τόξου ιοντική επιμετάλλωση, αντιδραστική ιοντική επιμετάλλωση ραδιοσυχνότητας ιοντική επιμετάλλωση, dc απαλλαγής ιοντική επιμετάλλωση).

PVD είναι η συντομογραφία του φυσική ατμού Deposition(Physical Vapor Deposition). Αναφέρεται η πρακτική της χρησιμοποίησης arc χαμηλής τάσης και υψηλής-current απαλλαγής τεχνολογία να ατμοποιήσει στο υλικό-στόχο και να ιονίζεται εξατμίζεται υλικού και αερίου σε συνθήκες κενού αέρος. Με τη χρήση της επιτάχυνσης του ηλεκτρικού πεδίου, το εξατμισμένο υλικό και τα προϊόντα της αντίδρασης είναι επικάθησε στο αντικείμενο.

Της τεχνολογίας PVD εμφανίστηκε διατεθειμένη ταινίες με υψηλή σκληρότητα, χαμηλό συντελεστή τριβής, καλή φθορά αντίσταση και χημική σταθερότητα. Η επιτυχής εφαρμογή στον τομέα της υψηλής ταχύτητας χάλυβα τέμνοντα εργαλεία έχει προσελκύσει μεγάλη προσοχή από τη μεταποιητική βιομηχανία σε όλο τον κόσμο. Ενώ αναπτυσσόμενες εξοπλισμός υψηλής απόδοσης και εξαιρετικά αξιόπιστη επικάλυψης, πιο σε βάθος έρευνα εφαρμογή έχει επίσης πραγματοποιηθεί καρβιδιόδεμα και κεραμικά Κοπτικά εργαλεία. Σε σύγκριση με τη διαδικασία της καρδιαγγειακής ΝΌΣΟΥ, PVD διαδικασία θερμοκρασία είναι χαμηλή, κάτω από 600℃Όταν η ροπή κάμψης δύναμη κοπής εργαλείο υλικά? Η εσωτερική πίεση κατάσταση της ταινίας είναι συμπιεστική πίεση, η οποία είναι πιο κατάλληλο για την επίστρωση του καρβιδιόδεμα Εργαλεία ακριβείας περίπλοκη. PVD διαδικασία έχει καμία επίπτωση στο περιβάλλον και σύμφωνα με την κατεύθυνση της σύγχρονης πράσινης κατασκευή ανάπτυξης. Επί του παρόντος, PVD επίστρωση τεχνολογία έχει χρησιμοποιηθεί ευρέως στην επεξεργασία επιστρώματος του καρβιδίου άκρο Φρέζες επεξεργασίας αρκών, τρυπάνι, βήμα τρυπάνι, πετρελαίου γεωτρήσεις, γλύφανο, βρύση, Δεικτοποιημένων άλεσης κόφτη φύλλο, γυρίζοντας λεπίδα, ειδικά σε σχήμα κοπής, συγκόλλησης, κοπής, κ.λπ.

Της τεχνολογίας PVD όχι μόνο βελτίωσε τη δύναμη συγκόλληση λεπτό φιλμ και εργαλείο μήτρα υλικών, αλλά επίσης να αναπτύξει τη σύνθεση επίστρωσης από την πρώτη γενιά του κασσίτερου πολλαπλών σύνθετων επίστρωμα όπως τρίλιζα, TiCN, ZrN, CrN, MoS2, TiAlN, TiAlCN, κασσίτερος-aln, CNx, DLC και ta-c.

Ενισχυμένη μαγνητικό καθοδικό τόξο: η τεχνική του τόξου καθόδων είναι να διαχωρίσετε το στόχο σε ένα κράτος ιόντων μέσω χαμηλής τάσης και υψηλής τρέχουσα υπό τον όρο του κενού, ώστε να ολοκληρωθεί η Αποκαθήλωση του λεπτό φιλμ υλικού. Το τόξο ενισχυμένη μαγνητικό καθόδων χρησιμοποιεί η συνδυασμένη δράση των ηλεκτρομαγνητικών πεδίων για τον έλεγχο του τόξου της επιφάνειας στόχο αποτελεσματικά, γεγονός που καθιστά το υλικό του ιονισμού ποσοστό υψηλότερο και οι επιδόσεις της ταινίας καλύτερα.

Φιλτραρισμένη καθοδική τόξου: σύστημα ηλεκτρομαγνητική φιλτραρίσματος φιλτραρισμένη καθοδική τόξου (FCA), εξοπλισμένο με υψηλό αποδοτικό ιόντων πηγή μπορεί να παραχθεί από τα μακροσκοπικά σωματίδια στο πλάσμα και ιόντων φίλτρο μάζα καθαρό, μετά από μαγνητική διήθηση από ιζηματογενή σωματίδια ιονισμού επιτόκιο ήταν 100%, και μπορεί να φιλτράρει τα μεγαλύτερα σωματίδια, έτσι η προετοιμασία της ταινίας είναι πολύ συμπαγές και λείο, με την καλή αντίσταση διάβρωσής, και η αντοχή του σώματος είναι πολύ ισχυρή.

Magnetron επιμετάλλωση: σε περιβάλλον κενού, ο στόχος είναι βομβαρδιζόμαστε από ιόντα ιονισμένο αδρανές αέριο μέσω της συνδυασμένης δράσης της τάσης και μαγνητικό πεδίο, προκαλώντας το στόχο να εξάγεται με τη μορφή από ιόντα, άτομα ή μόρια και να κατατεθεί στο υπόστρωμα σε μορφή ενός λεπτή ταινία. Μαέστρος και μη-αγωγός υλικά μπορεί sputtering ως υλικά στόχου σύμφωνα με διαφορετικές ιονισμού πηγές ενέργειας χρησιμοποιείται.

Ιονική ακτίνα DLC: αέριο υδρογόνο άνθρακα είναι χωρισμένη σε πλάσμα στην πηγή ιόντων και ιόντα άνθρακα απελευθερώνονται από την πηγή ιόντων υπό η συνδυασμένη δράση των ηλεκτρομαγνητικών πεδίων. Ιονική ακτίνα ενέργειας ελέγχεται με τη ρύθμιση της τάσης που εφαρμόζεται για το πλάσμα. Η ιονική ακτίνα υδρογονανθράκων εισάγεται στο υπόστρωμα και ο ρυθμός εναπόθεσης της είναι ανάλογη με το Ιωνικό πυκνότητα ρεύματος. Η πηγή ακτίνων αστέρι τόξου επίστρωση ιόντων υιοθετεί υψηλής τάσης, έτσι ώστε η ενέργεια ιόν είναι μεγαλύτερο, γεγονός που καθιστά την ταινία και υπόστρωμα ομολόγων καλά. Το μεγαλύτερο ιόν τρέχουσα κάνει γρηγορότερα την εναπόθεση ταινία DLC. Το κύριο πλεονέκτημα της δοκού τεχνολογία ιόντων είναι ότι αυτό μπορούν να καταθέτουν εξαιρετικά λεπτή και πολυεπίπεδη δομή, η διαδικασία ελέγχου ακρίβεια μπορεί να φθάσει αρκετές angstrom και μπορεί να μειώσει το ελάττωμα που προκαλείται από τη ρύπανση σωματιδίων κατά τη διαδικασία στο ελάχιστο.

IKS PVD προσαρμοστεί το κατάλληλο mahcine κενού επίστρωση PVD για εσάς, επικοινωνήστε μαζί μας τώρα, iks.pvd@foxmail.com