Η διαδικασία δράσης της επιμετάλλωσης

Η διαδικασία δράσης της επιμετάλλωσης είναι η ακόλουθη: η πηγή εξάτμισης συνδέει την άνοδο, το τεμάχιο εργασίας συνδέει την κάθοδο, όταν συνδέεται με τάση τρις ​​έως πέντε χιλιάδων βολτ συνεχούς ρεύματος, η πηγή εξάτμισης και το τεμάχιο εργασίας παράγουν μια εκκεντροφόρηση. Λόγω του αδρανούς αερίου αργού στο κάλυμμα κενού, μέρος του αερίου αργού ιονίζεται κάτω από τη δράση του ηλεκτρικού πεδίου εκφόρτισης, σχηματίζοντας έτσι μια σκοτεινή περιοχή πλάσματος γύρω από το κατεργαζόμενο τεμάχιο. Το θετικά φορτισμένο ιόν αργού βομβαρδίζει την επιφάνεια του κατεργαζόμενου τεμαχίου έντονα, προκαλώντας την έκθλιψη των επιφανειακών σωματιδίων και της βρωμιάς του τεμαχίου εργασίας έτσι ώστε η επιφάνεια του προς κατεργασία τεμαχίου να καθαρίζεται πλήρως από το ιόν βομβαρδισμός. Στη συνέχεια, ενεργοποιείται η τροφοδοσία εναλλασσόμενου ρεύματος της πηγής εξάτμισης και τα σωματίδια του υλικού εξάτμισης τήκονται και εξατμίζονται, εισέρχονται στην περιοχή εκκένωσης φωτός και ιονίζονται. Τα θετικά φορτισμένα ιόντα εξάτμισης, κάτω από την προσέλκυση καθόδου, βυθίζονται στο τεμάχιο εργασίας μαζί με ιόντα αργού. Όταν τα ιόντα εξάτμισης που αποτίθενται στην επιφάνεια του τεμαχίου εργασίας υπερβαίνουν τον αριθμό των ιόντων διασποράς, συσσωρεύονται σταδιακά για να σχηματίσουν ένα στρώμα επικάλυψης που προσκολλάται σταθερά στην επιφάνεια του τεμαχίου εργασίας. Αυτή είναι η απλή διαδικασία της επιμετάλλωσης.

IKS PVD τεχνολογία (Shenyang) Co, Ltd , PVD κατασκευαστής κενού μηχανή επικάλυψης από την Κίνα, το κύριο προϊόν μας: διακοσμητικά mahcine επίστρωση, εργαλεία επικάλυψης εργαλείων, οπτική μηχανή επικάλυψης, PVD επίχρισμα line.More λεπτομέρειες, επικοινωνήστε με: iks.pvd@foxmail. com