Χαρακτηριστικά PVD Nanocoatings
May 22, 2019| Χαρακτηριστικά των PVD nanocoatings
Υπάρχουν τρεις βασικές μέθοδοι για την φυσική απόθεση ατμών των νανο-επιστρώσεων: εξάτμιση υπό κενό, ψεκασμός και εναπόθεση ιόντων. Η εξάτμιση του καπνού πρέπει να εξατμίζει το υλικό της πηγής σε σωματίδια (άτομα ή ιόντα) μέσω θέρμανσης δέσμης ηλεκτρονίων, και στη συνέχεια να τα τοποθετήσετε στην επιφάνεια του τεμαχίου για να σχηματίσουν μια επικάλυψη. Η επικάλυψη έχει σχετικά περισσότερους πόρους, ο οποίος έχει γενική πρόσφυση με το υπόστρωμα. Η επίστρωση με σπινθηροβολία παίρνει το τεμάχιο εργασίας ως την άνοδο και το στόχο ως την κάθοδο. Το ιόν αργού που παράγεται με ιονισμό αργού χρησιμοποιείται για να εκραγεί τα άτομα στόχου και να τα αποθέσει στην επιφάνεια του κατεργαζόμενου τεμαχίου. Η επικάλυψη έχει λιγότερους πόρους και συνδυάζεται καλά με το υπόστρωμα. Η επιμετάλλωση ιόντων είναι να γίνει το υλικό σε άτομα με εξάτμιση, ψεκασμό ή χημικές μεθόδους και να ιονισθεί από το πλάσμα γύρω από το υπόστρωμα. Κάτω από τη δράση του ηλεκτρικού πεδίου, η επικάλυψη σχηματίζεται με την πτήση στο υπόστρωμα με μεγαλύτερη κινητική ενέργεια. Η επικάλυψη είναι ομοιόμορφη και πυκνή, με βασικά κανέναν πόρο και καλά συνδυασμένη με το υπόστρωμα.
Τα νανοφίλμ του οξειδίου του τιτανίου παρασκευάστηκαν με ψεκασμό συνεχούς μαγνητρονίου. Η πίεση του θαλάμου εκτόξευσης αντλήθηκε σε 1.3 10-4pa, και κατόπιν πληρώθηκε με Ar, 02 και CF4, η συνολική πίεση ήταν 1.3 ρρΑ (η ποσότητα της έγχυσης ελεγχόταν κατά τη διάρκεια του ψεκασμού). Το πάχος της μεμβράνης περνάει υπό σταθερή τάση ψεκασμού (700 V) για να αλλάξει τις συνθήκες ελέγχου της εκτόξευσης, τον έλεγχο της θερμοκρασίας της πλάκας βάσης σε 100 ~ 400 ℃ . Τα ηλεκτροχρωματικά χαρακτηριστικά βρέθηκαν σε LiC1O4 και ανθρακικό προπυλένιο. Ωστόσο, η επιφάνεια του φιλμ επηρεάζεται από το αέριο και τα φορτισμένα σωματίδια και η απόδοση της μεμβράνης επηρεάζεται σε μεγάλο βαθμό από την κατάσταση του πλάσματος και η κατάσταση του ψεκασμού δεν είναι εύκολο να ελεγχθεί αυστηρά, γεγονός που είναι και το μεγαλύτερο μειονέκτημα.
Προκειμένου να βελτιωθεί περαιτέρω η ποιότητα της νανο-επίστρωσης, διάφορες προηγμένες τεχνολογίες PVD έχουν αναπτυχθεί και προκύψουν μέσω του συνδυασμού διαφόρων τεχνολογιών. Διάφορες τεχνικές εκτόξευσης μαγνητρονίων έχουν αναπτυχθεί με την εισαγωγή μαγνητικού πεδίου στην τεχνική διασκορπισμού που κυριαρχείται από ηλεκτρικό πεδίο. Προκειμένου να ενισχυθεί η χημική διεργασία σχηματισμού φιλμ, εισήχθη αντιδραστικό αέριο στη διαδικασία εξάτμισης, ψεκασμού και επιμετάλλωσης με ιοντίζουσα ακτινοβολία, έτσι εμφανίστηκε η τεχνολογία αντίδρασης με εξάτμιση, η τεχνολογία αντιδραστικής έκρηξης και η τεχνολογία αντιδραστικής επικάλυψης ιόντων. Επιπλέον, υπάρχει εναπόθεση με λέιζερ παλμού (PLD), ψεκασμός μαγνητρονίου (MSPLD), ψεκασμός με ιονισμένο μαγνήσιο (ψεκασμός ιόντων μαγνητρονίων), επιταξία μοριακής δέσμης (MBE), ανάπτυξη μετανάστευσης και άλλη τεχνολογία νέας μεμβράνης.
Μπορεί να φανεί ότι με την ανάπτυξη της επιστήμης και της τεχνολογίας, τα όρια μεταξύ CVD και PVD δεν είναι ξεκάθαρα και τα δύο διεισδύουν μεταξύ τους, καθιστώντας έτσι τις δύο τεχνολογίες προετοιμασίας επιστρώσεων πιο τέλειες.
IKS PVD, διακοσμητική μηχανή επικάλυψης, μηχανή επικάλυψης εργαλείων, επικοινωνήστε με: iks.pvd@foxmail.com
