PVD Εξοπλισμός επίστρωσης κενού Εξοπλισμός συστήματος εξάτμισης

PVD σύστημα εξάτμισης κενού PVD σύστημα αφορά κυρίως το τμήμα που σχηματίζει φιλμ, PVD μηχανή επικάλυψης έχει πολλές συσκευές που σχηματίζουν φιλμ, PVD επίστρωση έχει θέρμανση αντίστασης, RF sputtering, επιμετάλλωση ιόντων και άλλους τρόπους.

Οι μέθοδοι θέρμανσης αντίστασης επικάλυψης PVD και εξάτμιση πυροβόλων ηλεκτρονίων παρουσιάζονται παρακάτω:

Η εξάτμιση αντοχής στην επικάλυψη PVD σύμφωνα με τη δομή και την αρχή λειτουργίας είναι η πιο ευρέως χρησιμοποιούμενη μέχρι στιγμής. Η επίστρωση PVD είναι η πιο ευρέως χρησιμοποιούμενη μέθοδος εξάτμισης και η επίστρωση PVD είναι η μακρύτερη λειτουργία εξάτμισης.

Η λειτουργία της επίστρωσης PVD είναι:

Το PVD επικαλυμμένο φύλλο βολφραμίου θα έχει σχήμα σκαφών και στη συνέχεια θα εγκατασταθεί στη μέση των δύο ηλεκτροδίων, θα επαναθερμάνει την αγωγιμότητα στο PVD υλικό επίστρωσης, όταν η θερμότητα του βολφραμίου θα είναι υψηλότερη από αυτή των υλικών τήξης, εξάχνωσης ή εξάτμισης PVD, στην εύκολη λειτουργία, απλή δομή, χαμηλό κόστος. Η εξάτμιση πυροβόλων όπλων PVD είναι ο πιο ευρέως χρησιμοποιούμενος τρόπος εξάτμισης μέχρι στιγμής. Η επίστρωση PVD μπορεί να εξατμίσει οποιοδήποτε είδος υλικού επίστρωσης PVD.

Το υλικό επικάλυψης στο εσωτερικό του χωνευτηρίου, το PVD επίστρωμα θα κατασκευαστεί σε πηγή εξάτμισης τύπου νήματος, PVD επικάλυψη επειδή το υλικό νήματος είναι βολφράμιο, σχηματίζοντας PVD επικάλυψη λόγω δέσμης ηλεκτρονίων, θερμοκρασία δέσμης ηλεκτρονίων είναι πολύ υψηλή, PVD επικάλυψη μπορεί να λιώσει οποιαδήποτε επικάλυψη τα υλικά που έχουν ρυθμιστεί προς τα κάτω.